Nikon erhält NEDO-Förderung für digitales Lithografiesystem

• Nikon wurde für ein staatliches Förderprojekt der NEDO zur Entwicklung eines hochauflösenden digitalen Lithografiesystems für fortschrittliche Halbleitergehäuse ausgewählt.
• Das System soll eine Auflösung von 0.5 µm sowie eine Überlagerungsgenauigkeit von ±0.15 µm oder besser erreichen.
• Angestrebt wird zudem ein um 50 Prozent geringerer Energieverbrauch gegenüber herkömmlichen Systemen.

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