交易 Axcelis - ACLS CFD
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- 曆史數據
交易條件
价差 | 0.13 | ||||||||
多头隔夜费
多头隔夜费
前往平台 | -0.023512% | ||||||||
空头隔夜费
空头隔夜费
前往平台 | 0.00129% | ||||||||
隔夜费时间 | 22:00 (UTC) | ||||||||
最小交易量 | 0.1 | ||||||||
货币 | USD | ||||||||
保证金 | 5.00% | ||||||||
上市交易所 | United States of America | ||||||||
交易费 | 0% |
關鍵數據
前收盤價 | 64.44 |
開盤價 | 64.44 |
1 年變化 | -42.41% |
日範圍 | 61.66 - 64.44 |
- 上週
- 上個月
- 去年
- 過去兩年
- 最大
- 每日
- 每週
- 每月
日期 | 關閉 | 更改 | 變化 (%) | 打開 | 高 | 低 |
---|---|---|---|---|---|---|
Feb 21, 2025 | 63.06 | -1.40 | -2.17% | 64.46 | 64.73 | 61.50 |
Feb 20, 2025 | 64.44 | 0.88 | 1.38% | 63.56 | 65.54 | 63.56 |
Feb 19, 2025 | 63.54 | 0.13 | 0.21% | 63.41 | 64.45 | 62.73 |
Feb 18, 2025 | 63.39 | 2.28 | 3.73% | 61.11 | 63.75 | 60.07 |
Feb 14, 2025 | 60.97 | -0.80 | -1.30% | 61.77 | 61.77 | 59.72 |
Feb 13, 2025 | 61.89 | 1.54 | 2.55% | 60.35 | 62.07 | 60.08 |
Feb 12, 2025 | 60.07 | 1.82 | 3.12% | 58.25 | 60.31 | 56.26 |
Feb 11, 2025 | 59.23 | -2.62 | -4.24% | 61.85 | 62.98 | 57.59 |
Feb 10, 2025 | 67.56 | 3.45 | 5.38% | 64.11 | 67.61 | 64.03 |
Feb 7, 2025 | 63.83 | -1.60 | -2.45% | 65.43 | 65.69 | 62.98 |
Feb 6, 2025 | 65.44 | -1.29 | -1.93% | 66.73 | 67.43 | 65.00 |
Feb 5, 2025 | 67.03 | 0.88 | 1.33% | 66.15 | 67.17 | 65.15 |
Feb 4, 2025 | 66.09 | 0.62 | 0.95% | 65.47 | 67.47 | 65.18 |
Feb 3, 2025 | 65.58 | -0.37 | -0.56% | 65.95 | 66.95 | 64.16 |
Jan 31, 2025 | 67.93 | -2.17 | -3.10% | 70.10 | 71.22 | 67.54 |
Jan 30, 2025 | 70.06 | 0.60 | 0.86% | 69.46 | 70.78 | 68.45 |
Jan 29, 2025 | 68.47 | -0.47 | -0.68% | 68.94 | 68.94 | 67.45 |
Jan 28, 2025 | 68.05 | -1.20 | -1.73% | 69.25 | 69.44 | 67.70 |
Jan 27, 2025 | 69.39 | 1.04 | 1.52% | 68.35 | 69.45 | 67.99 |
Jan 24, 2025 | 70.70 | 0.07 | 0.10% | 70.63 | 71.52 | 69.46 |
差價合約交易計算器
如果您在特定日期(選取一個日期)開立差價合約交易並在不同日期(選取一個日期)關閉交易,計算您的假設盈虧。
交易佣金
0
- 1:1
- 2:1
- 3:1
- 5:1
- 10:1
- 20:1
杠杆
20:1
- 20
- 100
- 500
- 1000
- 10000
投資
交易規模(槓桿 x 投資):
打開
關閉
做空 做多
Axcelis Company profile
关于 Axcelis
Axcelis Technologies, Inc.设计、制造和服务用于制造半导体芯片的离子植入和其他加工设备。 公司还提供售后生命周期的产品和服务,包括二手工具、备件、设备升级、维修服务和客户培训。 它提供完整的高能、大电流和中电流植入器产品线,以满足所有应用需求。 它的Purion系统都是基于一个共同的平台,实现了植入物纯度、精度和生产率的结合。 其Purion H、Purion Dragon和Purion H200点阵式高电流系统涵盖了所有高电流要求。 其Purion XE高能系统将其射频(RF)林肯高能、点束技术与Purion平台晶圆处理系统相结合。 它还提供Purion M中电流系统。 其Purion M系统还为特殊应用提供了差异化的能力。
Industry: | Semiconductor Equipment & Testing (NEC) |
108 Cherry Hill Dr
BEVERLY
MASSACHUSETTS 01915
US
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