交易 Axcelis - ACLS CFD
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- 曆史數據
交易條件
价差 | 0.18 | ||||||||
多头隔夜费
多头隔夜费
前往平台 | -0.024124% | ||||||||
空头隔夜费
空头隔夜费
前往平台 | 0.001901% | ||||||||
隔夜费时间 | 22:00 (UTC) | ||||||||
最小交易量 | 1 | ||||||||
货币 | USD | ||||||||
保证金 | 5.00% | ||||||||
上市交易所 | United States of America | ||||||||
交易费 | 0% |
關鍵數據
前收盤價 | 73.23 |
開盤價 | 73.46 |
1 年變化 | -42.19% |
日範圍 | 73.31 - 74.69 |
- 上週
- 上個月
- 去年
- 過去兩年
- 最大
- 每日
- 每週
- 每月
日期 | 關閉 | 更改 | 變化 (%) | 打開 | 高 | 低 |
---|---|---|---|---|---|---|
Nov 21, 2024 | 73.23 | 1.78 | 2.49% | 71.45 | 73.71 | 70.57 |
Nov 20, 2024 | 70.91 | 1.16 | 1.66% | 69.75 | 71.19 | 69.30 |
Nov 19, 2024 | 70.15 | -1.50 | -2.09% | 71.65 | 71.65 | 69.76 |
Nov 18, 2024 | 72.09 | -0.24 | -0.33% | 72.33 | 73.85 | 71.58 |
Nov 15, 2024 | 73.13 | -4.00 | -5.19% | 77.13 | 77.13 | 73.09 |
Nov 14, 2024 | 78.76 | -1.44 | -1.80% | 80.20 | 80.63 | 78.59 |
Nov 13, 2024 | 79.63 | -2.37 | -2.89% | 82.00 | 82.36 | 79.00 |
Nov 12, 2024 | 82.64 | -1.42 | -1.69% | 84.06 | 85.56 | 80.82 |
Nov 11, 2024 | 85.27 | 0.83 | 0.98% | 84.44 | 85.40 | 83.20 |
Nov 8, 2024 | 85.03 | -0.07 | -0.08% | 85.10 | 86.45 | 83.04 |
Nov 7, 2024 | 86.99 | 0.01 | 0.01% | 86.98 | 91.97 | 81.35 |
Nov 6, 2024 | 87.91 | 0.66 | 0.76% | 87.25 | 90.25 | 86.46 |
Nov 5, 2024 | 85.43 | 0.47 | 0.55% | 84.96 | 86.15 | 84.96 |
Nov 4, 2024 | 85.13 | -0.42 | -0.49% | 85.55 | 86.82 | 85.00 |
Nov 1, 2024 | 86.05 | 0.60 | 0.70% | 85.45 | 86.78 | 85.40 |
Oct 31, 2024 | 85.21 | -4.26 | -4.76% | 89.47 | 89.47 | 85.20 |
Oct 30, 2024 | 90.09 | 0.09 | 0.10% | 90.00 | 91.66 | 89.38 |
Oct 29, 2024 | 92.02 | 2.17 | 2.42% | 89.85 | 92.15 | 89.51 |
Oct 28, 2024 | 90.04 | 0.46 | 0.51% | 89.58 | 90.35 | 88.25 |
Oct 25, 2024 | 89.82 | -0.62 | -0.69% | 90.44 | 91.67 | 89.50 |
差價合約交易計算器
如果您在特定日期(選取一個日期)開立差價合約交易並在不同日期(選取一個日期)關閉交易,計算您的假設盈虧。
交易佣金
0
- 1:1
杠杆
1:1
- 20
- 100
- 500
- 1000
- 10000
投資
交易規模(槓桿 x 投資):
打開
關閉
做空 做多
Axcelis Company profile
关于 Axcelis
Axcelis Technologies, Inc.设计、制造和服务用于制造半导体芯片的离子植入和其他加工设备。 公司还提供售后生命周期的产品和服务,包括二手工具、备件、设备升级、维修服务和客户培训。 它提供完整的高能、大电流和中电流植入器产品线,以满足所有应用需求。 它的Purion系统都是基于一个共同的平台,实现了植入物纯度、精度和生产率的结合。 其Purion H、Purion Dragon和Purion H200点阵式高电流系统涵盖了所有高电流要求。 其Purion XE高能系统将其射频(RF)林肯高能、点束技术与Purion平台晶圆处理系统相结合。 它还提供Purion M中电流系统。 其Purion M系统还为特殊应用提供了差异化的能力。
Industry: | Semiconductor Equipment & Testing (NEC) |
108 Cherry Hill Dr
BEVERLY
MASSACHUSETTS 01915
US
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